Am 02. Januar 2006 startete am PHOTO+MEDIENFORUM KIEL EVA: der Lehrgang zur Vorbereitung auf die Gesellenprüfung zur/m Fotografin/en. Namhafte Unternehmen der Foto- und Medienbranche investierten in den Fotografennachwuchs und förderten mit einem Stipendium die externe Vorbereitung auf die Gesellenprüfung zum Fotografen am PHOTO+MEDIENFORUM KIEL.
Zu den Förderern zählen die Unternehmen bron imaging GmbH, CeWe Color AG & Co. OHG, Epson Deutschland GmbH, Fuji Photo Film (Europe) GmbH, Kodak GmbH, Nikon GmbH und Rollei GmbH.
Der Lehrgang, der optimal auf die heutigen Anforderungen im Fotografenberuf vorbereitet, dauert insgesamt 30 Monate und endet im Juni 2008 mit der Gesellenprüfung zur/zum Fotografin/en vor der Handwerkskammer. Während 39 Wochen werden die fachtheoretischen Kenntnisse sowie fotografische Praxis in Kiel vermittelt. Außerdem gibt es ein zweiwöchiges Managementtraining und eine zweiwöchige Projektarbeit. In der übrigen Zeit absolvieren die Teilnehmer Praktika in ausgewählten Fotostudios im ganzen Bundesgebiet. Solides handwerkliches Fundament, gestalterisches und konzeptionelles Know-how sowie betriebswirtschaftliche Grundkenntnisse vermittelt das PHOTO+MEDIENFORUM KIEL den angehenden Fotografen. Engagierte Trainer betreuen intensiv die Teilnehmer, aber auch die Rahmenbedingungen im Kieler Forum tragen zum Erfolg bei.
Der neue Lehrgang EVA startet am 07. August 2006 und auch hierfür gibt es wieder ein Stipendium. Eine Investition in die Zukunft des Branchennachwuchses durch die Förderung dieses Lehrganges mit einem weiteren Stipendium übernahmen noch einmal namhafte Unternehmen der Foto- und Medienbranche. Adobe, allcop, CEWE Color, Hensel und Panasonic engagieren sich für den nächsten EVA-Lehrgang.
Bewerben kann sich jeder, der das achtzehnte Lebensjahr vollendet hat und mindestens einen Realschulabschluss besitzt. Die Bewerbungsunterlagen können unter www.photomedienforum.de abgerufen und eingereicht werden beim:
PHOTO+MEDIENFORUM KIEL
Stichwort „Eva“
Feldstrasse 9 – 11 - 24105 Kiel
Tel: 0431 – 57 97 00
Bewerbungsschluss für die Anmeldung zum Lehrgang und für das Stipendium ist der 31. Mai 2006.
